Посвященный EUV-литографии научный семинар прошел в Национальном центре физики и математики
Нижний Новгород. 14 марта. НТА-Приволжье — В Национальном центре физики и математики (НЦФМ) прошел научный семинар, посвященный EUV-литографии и перспективам создания отечественного EUV-литографа для микроэлектроники.
Как рассказал научный руководитель НЦФМ академик РАН Александр Сергеев, инициатива проведения семинара исходила от обучающихся в Центре магистрантов:
"Тема первого семинара выбрана не случайно. У нас учится много ребят, лазерщиков и плазменщиков, проходят занятия по лазерно-плазменной тематике, которая, на мой взгляд, является сегодня одной из определяющих в технологическом развитии – любые достижения или изменения в этой области оказывают существенное влияние на дальнейшие события в области развития науки и техники".
По информации пресс-службы НЦФМ, заведующий отделом многослойной рентгеновской оптики Института физики микроструктур (ИФМ) РАН Николай Чхало рассказал о существующих в России заделах развития данного направления, промежуточных результатах проводимых НИОКР и планах дальнейшего развития работ. Он отметил, что в России существуют критические технологии, позволяющие разрабатывать и производить литографическое оборудование. В частности, есть сверхточная рентгеновская оптика (аберрации ≤1 нм), экспериментальные образцы источников рентгеновского излучения и масок, прототип микроскопа для масок в EUV-диапазоне. Более детальной проработки требуют имеющие заделы в системах совмещения и сканирования.
"Нами предложен проект высокопроизводительного рентгеновского литографа для производства микросхем по передовым технологическим нормам на основе источника излучения с длиной волны 11,2 нм. У нас есть экспериментальные результаты, указывающие на перспективы создания такого источника излучения на основе ксенона. Под него была разработана оптика с высоким коэффициентом отражения – рутениево-бериллиевые зеркала. В составе зеркальной оптической схемы литографа она будет примерно в 1,5 раза эффективнее того, что создано в зарубежных компаниях", - рассказал он.
По плану, которым поделился Николай Чхало, проект завершится к 2030 году. На первом этапе (2023-2024 гг.), после доработки необходимых критических технологий, учёные планируют создать альфа-литограф, который станет прототипом для отработки операций всего технологического цикла. Реализация всего проекта позволит наладить в России производство литографов, необходимых компонентов и систем для отечественных фабрик производства микросхем.
В ближайшее время в НЦФМ пройдут семинары по тематике атмосферного электричества и квантовых коммуникаций. В целом же предполагается, что каждая из десяти секций НЦФМ проведет семинары по направлениям проводимых исследований. По словам Александра Сергеева, проведение подобных семинаров в будущем позволит не только знакомить научное сообщество, студентов и магистрантов с последними достижениями российских учёных, с новыми возможностями, но и привлекать на площадку НЦФМ (включает кооперацию 55 научных институтов и университетов страны) новые направления научно-исследовательской деятельности, тем самым формируя научный центр будущего.
"Те, кто учится сегодня в «МГУ Саров», нацелены в дальнейшем остаться работать в периметре НЦФМ. Для этого нам важно заинтересовать их новыми интересными задачами, которые здесь будут решаться", - отметил он.
СПРАВКА
Литография – технология переноса рисунка с шаблона на конкретную поверхность, широко используется в микроэлектронике и других видах микротехнологий, а также в производстве печатных плат. Литографическое оборудование – один из важных элементов в создании передовых технологий для полупроводниковой индустрии. На сегодняшний день нидерландская компания «ASML» является монополистом в производстве оборудования для ЭУФ литографии, владеет технологией и системами, способными давать излучение с длиной волн 13,5 нм (EUV). EUV – экстремальный ультрафиолет, относится к длине волны света.
Сейчас наиболее широко используется глубокий ультрафиолет (Deep Ultraviolet (DUV)) с длиной волны 248 и 193 нм, но это оборудование уже относится к предыдущему поколению, новое поколение уже использует EUV.
Национальный центра физики и математики (НЦФМ) создаётся по поручению Президента России в Сарове (Нижегородская область). На территории НЦФМ строится комплекс из научно-исследовательских корпусов, передовых лабораторий и установок класса «мидисайенс» и «мегасайенс». Научную кооперацию НЦФМ составляют 55 научных организаций, вузов и высокотехнологичных компаний со всей России. Образовательной частью Национального центра стал филиал МГУ «МГУ Саров», где учатся более сотни магистрантов и аспирантов со всей страны. Учредители НЦФМ – Госкорпорация «Росатом», МГУ им. М.В. Ломоносова, РАН, Министерство науки и высшего образования России, РФЯЦ-ВНИИЭФ, НИЦ «Курчатовский институт» и ОИЯИ. Основные цели Национального центра – получение новых научных результатов мирового уровня, подготовка учёных высшей квалификации, воспитание новых научно-технологических лидеров, укрепление кадрового потенциала предприятий Госкорпорации «Росатом» и ключевых научных организаций России, повышение привлекательности российской науки для молодых учёных.
*************************************************************
С 2022 по 2031 год в России проходит Десятилетие науки и технологий. Его основные цели – привлечение молодежи в сферу науки и технологий, вовлечение исследователей и разработчиков в решение важных задач для страны и общества и рост знания людей о достижениях Российской науки.
Более подробная информация об инициативах, мероприятиях и проектах Десятилетия науки и технологий – на сайте наука.рф.
Оператор проведения Десятилетия науки и технологий – АНО «Национальные приоритеты».
Как рассказал научный руководитель НЦФМ академик РАН Александр Сергеев, инициатива проведения семинара исходила от обучающихся в Центре магистрантов:
"Тема первого семинара выбрана не случайно. У нас учится много ребят, лазерщиков и плазменщиков, проходят занятия по лазерно-плазменной тематике, которая, на мой взгляд, является сегодня одной из определяющих в технологическом развитии – любые достижения или изменения в этой области оказывают существенное влияние на дальнейшие события в области развития науки и техники".
По информации пресс-службы НЦФМ, заведующий отделом многослойной рентгеновской оптики Института физики микроструктур (ИФМ) РАН Николай Чхало рассказал о существующих в России заделах развития данного направления, промежуточных результатах проводимых НИОКР и планах дальнейшего развития работ. Он отметил, что в России существуют критические технологии, позволяющие разрабатывать и производить литографическое оборудование. В частности, есть сверхточная рентгеновская оптика (аберрации ≤1 нм), экспериментальные образцы источников рентгеновского излучения и масок, прототип микроскопа для масок в EUV-диапазоне. Более детальной проработки требуют имеющие заделы в системах совмещения и сканирования.
"Нами предложен проект высокопроизводительного рентгеновского литографа для производства микросхем по передовым технологическим нормам на основе источника излучения с длиной волны 11,2 нм. У нас есть экспериментальные результаты, указывающие на перспективы создания такого источника излучения на основе ксенона. Под него была разработана оптика с высоким коэффициентом отражения – рутениево-бериллиевые зеркала. В составе зеркальной оптической схемы литографа она будет примерно в 1,5 раза эффективнее того, что создано в зарубежных компаниях", - рассказал он.
По плану, которым поделился Николай Чхало, проект завершится к 2030 году. На первом этапе (2023-2024 гг.), после доработки необходимых критических технологий, учёные планируют создать альфа-литограф, который станет прототипом для отработки операций всего технологического цикла. Реализация всего проекта позволит наладить в России производство литографов, необходимых компонентов и систем для отечественных фабрик производства микросхем.
В ближайшее время в НЦФМ пройдут семинары по тематике атмосферного электричества и квантовых коммуникаций. В целом же предполагается, что каждая из десяти секций НЦФМ проведет семинары по направлениям проводимых исследований. По словам Александра Сергеева, проведение подобных семинаров в будущем позволит не только знакомить научное сообщество, студентов и магистрантов с последними достижениями российских учёных, с новыми возможностями, но и привлекать на площадку НЦФМ (включает кооперацию 55 научных институтов и университетов страны) новые направления научно-исследовательской деятельности, тем самым формируя научный центр будущего.
"Те, кто учится сегодня в «МГУ Саров», нацелены в дальнейшем остаться работать в периметре НЦФМ. Для этого нам важно заинтересовать их новыми интересными задачами, которые здесь будут решаться", - отметил он.
СПРАВКА
Литография – технология переноса рисунка с шаблона на конкретную поверхность, широко используется в микроэлектронике и других видах микротехнологий, а также в производстве печатных плат. Литографическое оборудование – один из важных элементов в создании передовых технологий для полупроводниковой индустрии. На сегодняшний день нидерландская компания «ASML» является монополистом в производстве оборудования для ЭУФ литографии, владеет технологией и системами, способными давать излучение с длиной волн 13,5 нм (EUV). EUV – экстремальный ультрафиолет, относится к длине волны света.
Сейчас наиболее широко используется глубокий ультрафиолет (Deep Ultraviolet (DUV)) с длиной волны 248 и 193 нм, но это оборудование уже относится к предыдущему поколению, новое поколение уже использует EUV.
Национальный центра физики и математики (НЦФМ) создаётся по поручению Президента России в Сарове (Нижегородская область). На территории НЦФМ строится комплекс из научно-исследовательских корпусов, передовых лабораторий и установок класса «мидисайенс» и «мегасайенс». Научную кооперацию НЦФМ составляют 55 научных организаций, вузов и высокотехнологичных компаний со всей России. Образовательной частью Национального центра стал филиал МГУ «МГУ Саров», где учатся более сотни магистрантов и аспирантов со всей страны. Учредители НЦФМ – Госкорпорация «Росатом», МГУ им. М.В. Ломоносова, РАН, Министерство науки и высшего образования России, РФЯЦ-ВНИИЭФ, НИЦ «Курчатовский институт» и ОИЯИ. Основные цели Национального центра – получение новых научных результатов мирового уровня, подготовка учёных высшей квалификации, воспитание новых научно-технологических лидеров, укрепление кадрового потенциала предприятий Госкорпорации «Росатом» и ключевых научных организаций России, повышение привлекательности российской науки для молодых учёных.
*************************************************************
С 2022 по 2031 год в России проходит Десятилетие науки и технологий. Его основные цели – привлечение молодежи в сферу науки и технологий, вовлечение исследователей и разработчиков в решение важных задач для страны и общества и рост знания людей о достижениях Российской науки.
Более подробная информация об инициативах, мероприятиях и проектах Десятилетия науки и технологий – на сайте наука.рф.
Оператор проведения Десятилетия науки и технологий – АНО «Национальные приоритеты».